Sputter-Targets für Ihre Anwendungen
Ab Juni 2025 bieten wir Ihnen hier die Möglichkeit, über unsere Target-Konfiguratoren das für Ihre Anwendung passende Target auszuwählen und eine Angebotsanfrage zu stellen.
Bis dahin senden Sie Ihre Anfrage gern an info@va-cc.de.

Rohrtargets
Höchste Produktivität – durch Rotation zur perfekten Schicht

Planare Rundtargets
Präzision für kleine Flächen – ideal für Forschung und High-Tech-Anwendungen

Planare Rechtecktargets
Maximale Fläche und Effizienz – ideal für die Hochvolumenproduktion