Beschreibung

Runde Planartargets sind flache, kreisförmige Sputtertargets, die für eine Vielzahl von Beschichtungsprozessen eingesetzt werden. Sie bieten eine präzise Materialfreisetzung und eignen sich ideal für klassische Magnetron-Sputterverfahren, insbesondere in kleineren oder spezialisierten Beschichtungsanlagen. 

Form

  • Flache, kreisförmige Geometrie (Scheibenform) 
  • Standardgrößen oder kundenspezifische Anpassungen möglich 
  • Erhältlich in unterschiedlichen Durchmessern und Dicken 
Sputter Targets all
Sputter Targets all
Sputter Targets AU
Sputter Targets AU
Sputter Targets CU
Sputter Targets CU
Sputter Targets Ni
Sputter Targets Ni
Sputter Targets NiCr
Sputter Targets NiCr
Sputter Targets Ti
Sputter Targets Ti
Vorteile

Hohe Materialreinheit

Ideal für High-End-Anwendungen mit höchsten Qualitätsanforderungen

Gleichmäßige Schichtdicke

Optimale Planarität gewährleistet homogene Beschichtungen

Flexibilität

Breite Auswahl an Materialien und Legierungen verfügbar

Einfache Handhabung

Kompatibel mit gängigen Haltersystemen und einfach zu montieren

Applikationen
Hand hält modernes Display mit blauen Anzeigen

Display
Opto­elektronik, OLED, Sensorik

Elektronik Halbleiter Elemente auf Leiterplatte

Elektronik & Halbleiter
Leistungs­elektronik, Photonik, Sensoren

Medizintechnik
Dünn­schicht­implantate, biokompatible Beschichtungen

Forschung & Entwicklung
Universitäten, Labore, Pilotanlagen

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